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    以格立为首的国内厂商，在家电行业掀起的腥风血雨尚未彻底消散，另外两则来自国内的消息，又先后引发了行业的震动。

    而这两个行业，自然是杨明布局已久的光刻机以及内存条行业。

    92年八月，在刚刚由精密研究所正式更名为华荣高科的当天，董事长任继宪方面宣布了一条消息。

    那就是经过足足七年的努力，华荣高科不但已经攻克了165纳米这个困扰芯片光刻技术多年的极限点，而且一下将光刻精度提升到了60纳米！

    听到这个消息，国内很多科学方面的专家就第一个跳出来表示这不可能。

    毕竟别说据他们所知，即便是如如西门子，高通等等国际光刻巨头，目前都仍旧卡在165纳米关口这点，就说技术规律……

    即便攻克了165纳米，纳米接下来按理也该攻克140纳米，115纳米……

    循序渐进。

    一下就将精度提升一百多纳米，达到60纳米……

    这简直不科学！

    也是因此，不知道多少科学家联名上书，要求华荣高科公布相关论文，以证实技术的切实性。

    山呼海啸般的质疑和呼吁，不但让华荣高科方面承受着巨大的压力。

    同时更让不知道多少对杨明心怀不满之人暗自幸灾乐祸，心说让你丫狂，现在倒血霉了吧？

    但自始至终，杨明都不为所动。

    毕竟科研这东西，只要掌握好节奏，有时候快一步，那就能步步快！

    而且华荣之所以能攻克光刻165纳米的极限，靠的也不是什么技术革新，单纯就是在原深紫外光技术上做了一点小改进。

    采用了浸入式曝光而已！

    一旦公布相关论文，内行人瞄上一眼，怕都能直接破解。

    到时候说不定一夜之间，全世界的光刻厂商都能将光刻精度从165纳米提升到60纳米……

    好不容易才攒了一点点领先优势，就因为一点质疑就公布，这种蠢事杨明可不会干。

    好不容易才抓到杨明的一点漏洞，想借此机会将杨明一棍子打死的家伙，可不会因为杨明的不回应而善罢甘休。

    某天。
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